近些年半導體、ALD蓬勃發(fā)展，臭氧被電子工業(yè)用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應用。我們介紹幾款能滿足半導體行業(yè)用的臭氧發(fā)生器。

 

1、美國SEMOZON® AX8415 

SEMOZON® AX8415 是 MKS 開發(fā)的具創(chuàng)新性和多功能性的臭氧發(fā)生器。該臭氧發(fā)生器的新穎結構和 電池設計可產(chǎn)生高清潔、高濃度、高流量的臭氧，將氧氣轉(zhuǎn)化為 >400 g/Nm3 的高濃度臭氧，適用于半導體、平板顯示器和光伏行業(yè)的前沿應用。

特點

在 5°C @ 2.5 slm 時臭氧濃度高達 425 g/Nm3 或 27.1 wt%

從 2.5 slm 到 50 slm 的 O2 流量可實現(xiàn)工藝靈活性

獲得 的電池設計可產(chǎn)生高濃度臭氧

在添加或不添加氮氣的情況下運行

閉環(huán)操作可實現(xiàn)更嚴格的過程控制

水冷

 

2、日本住友GRG臭氧發(fā)生器

日本住友GRG臭氧發(fā)生技術應用于滿足飲用水和廢水處理設施、游泳池和水族館以及工業(yè)用水、廢水和再生水的工業(yè)設施的水處理需求水。此外，已將相同的技術應用于化學品制造商、半導體制造商和 LCD 制造商等的生產(chǎn)過程中。

特點

· 無氮摻雜超凈臭氧無二氧化氮(NO)

· 高濃度400g/m2(N)[25.6wt%]

· 穩(wěn)定的臭氧濃度

· 體積小、重量輕 放電單元和動力單元在一個單元內(nèi)

· 耐高壓0.5MPa（工作壓力：0.15MPa）

· CE、 NRTL、 SEMI S2 兼容應用

· ALD· 光刻膠條

· LPCVD· 濕法清洗· SOM

水冷

3、加拿大Absolute Ozone® ATLAS 30

Absolute Ozone® 臭氧發(fā)生器由于獨特的優(yōu)雅設計，利用微流體平臺技術和出色的耐用性，所有風冷式 Absolute Ozone® 發(fā)生器都能可靠地為各種特殊應用提供超純、高濃度的臭氧。其性能在業(yè)界能夠可靠地產(chǎn)生高達 16% 重量的高濃度臭氧。

特點

在添加或不添加氮氣的情況下運行

濃度（重量百分比 O3）：200mg/L（5 -20wt%）

工作壓力：15-35Psig

氣體流量：0.1 - 4 slpm

風冷，將臭氧發(fā)生器放置在通風良好且不受天氣因素影響的區(qū)域

藥物合成

ALD

 

4、美國 IN USA OG-5000 臭氧發(fā)生器

OG-5000系列臭氧發(fā)生器是為滿足半導體工業(yè)中對高濃度潔凈臭氧的需求而設計的，可應用于化學氣相沉積、原子層沉積、氧化物生長和濕法處理過程中。

特點

濃度（重量百分比 O3）：超200mg/L（5 -20wt%）

用于摻雜的氮氣 級別五或更高 (僅0.5%)

進氣流量 0.5 到 20 slpm

臭氧出口壓力 15 到 40 psig

化學氣相沉積 (CVD)

原子層沉積 (ALD)

氧化物生長

表面處理

水冷

 

5、瑞典Primozone GM1-4 2.0 

Primozone GM1-4 2.0 高性能臭氧發(fā)生器基于 Primozone 的 技術。一種可實現(xiàn)可靠臭氧生產(chǎn)的技術，具有低能耗和出色的生命周期成本。高性能臭氧發(fā)生器基于 Primozone 的 技術。一種可實現(xiàn)可靠臭氧生產(chǎn)的技術，具有低能耗和出色的生命周期成本。

特點

進氣氧氣> 94%, N2 < 1%

可產(chǎn)生濃度高達 300 g /m³ 臭氧（相當于 20% 重量）

絕對氣壓為 3 bar / 43.5 psi

每臺發(fā)電機都有一個集成的控制系統(tǒng)，提供安全、監(jiān)控和控制。

模塊化設計使發(fā)電機可靠且易于維護。

 

以上5款為半導體行業(yè)常用的高濃度臭氧發(fā)生器，如果還想了解更多信息，可以聯(lián)系同林。

文章來源：https://www.tonglin.cn/changshi/589.html